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RTP快速退火爐的技術(shù)指標(biāo)
日期：2025-05-10 08:23
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摘要：
RTP快速退火爐可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設(shè)備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。
RTP快速退火爐主要技術(shù)指標(biāo)
l、外形尺寸：550×650×650mm（長×寬×高）
2、爐內(nèi)體尺寸：327×249×123mm（長×寬×高）
3、工作室采用進(jìn)口GE石英，外徑尺寸：290×230×24mm（長×寬×高）；表面進(jìn)行磨砂處理
4、不銹鋼反應(yīng)室上下反射面聚焦設(shè)計，內(nèi)表面采用鍍金處理，減小熱損失，極大提高了反射效率
5、水冷卻，確保燈箱散熱與快速降溫
6、風(fēng)扇冷卻保證加熱燈的冷卻
7、大溫度范圍150℃—1000℃，K型熱電偶
8、升溫速率：0.01—100℃/s可預(yù)設(shè)定
9、氣體：兩路美國進(jìn)口浮子流量計控制，流量：0—5L/min
10、采用歐陸2604高精度溫控儀控制溫度
11、可編程多條溫度曲線
l2、雙閉環(huán)控制溫度，穩(wěn)態(tài)溫度穩(wěn)定性±1℃
l3、光源：1200W×21只鹵鎢燈
l4、電源：AC380V；63A三相
l5、有效加熱區(qū)：180×180mm
l6、石英承片架Ф160mm；配6英寸硅片承片板
尊敬的客戶：
您好，我司是一支技術(shù)力量雄厚的開發(fā)群體，為廣大用戶提供完整的解決方案和技術(shù)服務(wù)。主要產(chǎn)品有氧化鋯燒結(jié)爐、石墨烯制備設(shè)備、等離子清洗機(jī)等。本企業(yè)堅持以誠信立業(yè)、以品質(zhì)守業(yè)、以進(jìn)取興業(yè)的宗旨，以更堅定的步伐不斷攀登新的高峰，為民族自動化行業(yè)作出貢獻(xiàn)，歡迎新老顧客放心選購自己心儀的產(chǎn)品。我們將竭誠為您服務(wù)！
