產品分類
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- CVD氣相沉積系統
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- 真空熱壓機
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- 高性能真空泵
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- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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ALD原子層沉積系統 原子層沉積（ALD）系統是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統通常用于半導體制...
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派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積是一種專業的產品，用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環境中使用氣相化學反應來沉積薄膜的先進過程。...
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迷你石墨烯CVD設備 迷你石墨烯CVD設備專為石墨烯生產設計配有高精度質量流量計以及薄膜真空規。迷你石墨烯CVD設備同時設備配有可燃氣體檢測裝...
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1200℃高真空迷你C... 1200℃高真空迷你CVD設備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設備包含一臺三路浮子流量計...
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晶圓級大尺寸二硫化鉬制... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備包括三溫區管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備通過...
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R-PECVD?真空旋... R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區管式爐、等離子發生機構、質量流量計供氣系統、高真空分子...
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雙溫區CVD系統 雙溫區CVD系統由1200℃雙溫區管式爐、雙通道質量流量計和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區CVD系統管式爐的兩個溫區分...
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1500℃單溫區3路質... 1500℃單溫區3路質量流量計高真空CVD系統由1500℃單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密...
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1500℃單溫區3路質... 1500℃單溫區3路質量供氣低真空CVD系統由1500℃單溫區管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
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1500℃單溫區3路浮... 1500℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由1500℃單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控...
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1500℃單溫區3路浮... 1500℃單溫區3路浮子供氣低真空CVD系統由1500℃單溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
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1200℃三溫區3路質... 1200℃三溫區3路質量供氣高真空CVD系統由三溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區分別由精密...
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1200℃三溫區3路質... 1200℃三溫區3路質量供氣低真空CVD系統由三溫區管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區分別由精密...
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1200℃雙溫區3路質... 1200℃雙溫區3路質量供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區分別由精密...
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1200℃雙溫區3路質... 1200℃雙溫區3路質量供氣低真空CVD系統由雙溫區管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區分別由精密...
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1200℃雙溫區3路浮... 1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫...
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1200℃雙溫區3路浮... 1200℃雙溫區3路浮子供氣低真空CVD系統由雙溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區分別由精密...
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1200℃三溫區3路浮... 1200℃三溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由三溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區分別由精密...
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1200℃三溫區3路浮... 1200℃三溫區3路浮子供氣低真空CVD系統由三溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區分別由精密...
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1700℃兩路浮子供氣... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為...
