產(chǎn)品名稱：雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀

CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實(shí)驗(yàn)室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。

設(shè)備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺(tái)，真空泵機(jī)組、真空測(cè)量規(guī)管，進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

設(shè)計(jì)特色

1. 設(shè)備主機(jī)采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測(cè)。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺(tái)。

2. 真空室采用下置靶設(shè)計(jì)，樣品臺(tái)具有加熱和旋轉(zhuǎn)但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。

3. 設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組，前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵，有效縮從常壓至低真空的時(shí)間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

4. 真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細(xì)，真空性能優(yōu)異。

5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效保證鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)參數(shù)：

磁控濺射頭	數(shù)量	2英寸 x2
	冷卻方式	水冷
蒸發(fā)系統(tǒng)	蒸發(fā)源	鎢絲籃
	*高溫度	1800℃
真空腔體	腔體尺寸	φ325mm X 600mm
	觀察窗口	φ100mm
	腔體材料	304不銹鋼
	開(kāi)啟方式	前開(kāi)門(mén)式
真空系統(tǒng)	機(jī)械泵	旋片泵
	抽氣接口	KF16
	抽氣速率	1.1L/s
	分子泵	渦輪分子泵
	抽氣接口	CF150
	抽氣速率	600L/s
	排氣接口	KF40
	真空測(cè)量	電阻規(guī)+電離規(guī)
	極限真空	1.3x10-4Pa
	供電電源	AC;220V 50/60Hz
電源配置	直流電源數(shù)量	1臺(tái)
	輸出功率	≤1500W
	輸出電壓	≤600W
	響應(yīng)時(shí)間	＜5ms
	射頻電源數(shù)量	1臺(tái)
	輸出功率	≤1500W
	功率穩(wěn)定度	≤5W
	射頻功率	13.56MHz
	射頻穩(wěn)定度	±0.005%
膜厚監(jiān)控系統(tǒng)	膜厚儀測(cè)量分辨率	±0.03Hz
	測(cè)量精度	±0.5%
	測(cè)量上限	50000
	測(cè)量速度	100~1000ms
水冷系統(tǒng)	水箱容積	9L
	流量	10L/min
供氣系統(tǒng)	流量計(jì)類型	質(zhì)量流量計(jì)
	量程	200sccm
	氣體類型	Ar氣
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機(jī)功率	4kw（主機(jī)+真空泵）
	整機(jī)尺寸	1000x950x1300mm
	整機(jī)重量	295kg

樣式一：尺寸150mm，加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃， 旋轉(zhuǎn)速度1-20r/min

樣式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精準(zhǔn)可調(diào)，旋轉(zhuǎn)速度1~20rpm，加熱溫度 0~500℃