產品名稱：高真空多弧離子鍍膜儀

1.真空腔室

Ф500×H420mm，304 上等不銹鋼，前開門結構； 腔室加熱溫度：室溫～350±1℃；

2.真空系統

復合分子泵+直聯旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統，數顯復合真空計；

3.真空極限

優于 6.0×10-5Pa（空載，經烘烤除氣后）；

4.漏率

設備升壓率≤0.8Pa/h；

設備保壓：停泵 12 小時候后，真空≤10Pa；

5.抽速

(空載）從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤15min；

6.基片臺尺寸

Φ150mm，自轉工位 3 個；

7.基片臺旋轉

基片旋轉：0～20 轉/分鐘；

8.濺射靶

DN100 新型磁過濾多弧靶 2 套

9.脈沖偏壓電源

-1000V，1 套；

11.控制方式

PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統；

12.報警及保護

對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善 的邏輯程序互鎖保護系統；

13.占地

(主機）L1900×W800×H1900(mm)。