產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSZ180-50F-DC-Q
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶(hù)可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護(hù)性氣體,若客戶(hù)需要通入混合氣體,可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購(gòu)。
詳情介紹:


桌面型單靶磁控鍍膜儀適用范圍:

該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。 

單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

桌面型單靶磁控鍍膜儀

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSZ180-50F-DC-Q

樣品臺(tái)

尺寸

φ100mm

加熱

*高500

轉(zhuǎn)速

0-20可調(diào)

磁控濺射靶

數(shù)量

2 x1

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 215mm 

觀察窗口

全向透明

腔體材料

高純石英

開(kāi)啟方式

上蓋拆卸式

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

旋片泵

分子泵

渦輪分子泵

真空測(cè)量

電阻規(guī)+電離規(guī)

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

極限真空

1.0E-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

機(jī)械泵1.1L/s  分子泵600L/s

電源配置

數(shù)量

直流電源 x1

*大輸出功率

直流電源300W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kW

整機(jī)尺寸

550mm X 350mm X400mm


豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)

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