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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個(gè)500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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項(xiàng)目 |
明細(xì) |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSZ300S-II-DCDC-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機(jī)功率 |
2KW |
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系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
φ140mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環(huán)水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ300mm，高度300mm |
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腔體材質(zhì) |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開啟方式 |
上頂開式 |
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氣體控制 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統(tǒng) |
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測(cè)量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
配直流電源,功率500W*2 |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
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設(shè)備尺寸 |
600mm×650mm×1080mm |
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設(shè)備重量 |
145kg |
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