一、設備性能：

鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。

二、設備基本結構：

鍍膜設備由真空室腔體，金屬/有機源系統，樣品臺系統，真空泵機組，膜厚檢測系統，設備機架，電控系統組成，真空室前門可與手套箱對接，采用一體化的設計方案，整套設備結構緊湊、布局簡潔，避免實驗設備外觀凌亂的現象。

三、設備技術指標：

產品名稱	帶手套箱三源蒸發鍍膜儀
產品型號	CY-EVH400-III-HHH-SS-STX
真空室腔體	外形	上等 304 不銹鋼 D 形真空室腔體 1 套，真空室內部尺寸 D400*480mm，前后雙開門，后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，前后門各配 DN100 視窗 1 套；
	底部	金屬源接口 2 套，有機源接口 4 套， 復合分子泵接口 1 套，CF25照明接口 2 套以及膜厚探頭接口 3 套；
	頂部	樣品臺接口 1 套，電動擋板接口 1 套，高真空氣動擋板閥接口 1 套
	左側	超高真空氣動擋板閥接口 1 套
金屬/有機源系統	金屬蒸發源	金屬蒸發源 2 套:水冷銅電極 2 組，兼容蒸發舟（鎢、鉬和鉭舟）和螺旋絲，配氣動擋板，1KW 直流恒流電源 1 臺（數字顯示），電流調整精度 1A（微調），功率滿足常見的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍；
	有機蒸發源 4 套	有機蒸發源 4 套:4CC（4ml） 石英舟，溫控電源 2 臺（溫控表顯示精度 0.1℃），溫度區間：室溫-500℃（控溫精度±1℃），配氣動擋板；
	隔板	蒸發源相互獨立，隔板分隔，避免交叉污
樣品臺系統	基片旋轉	轉速 0～30 轉／分連續可調
	基片升降	電動升降，襯底與蒸發源間距 200-300mm 通過觸摸屏連續可調；
	樣品臺	圓形托盤 1 套，一次可放置8片20×20mm 基片
	基片擋板	電動擋板
真空泵機組	1) 600L/s分子泵 1 臺； 2) 8L/s雙級泵 1 臺 3) CF150 氣動超高真空插板閥 1 臺； 4) CF40 超高真空氣動擋板閥 1 臺； 5) KF16 高真空氣動擋板閥 1 臺； 6) KF40 高真空氣動擋板閥 1 臺； 7) KF40 真空電磁充氣閥 1 臺； 8) KF40 泵閥連接軟管 2 套，KF40 三通 1 套； 9) ZDF-5227 數顯真空計 1 臺（測量范圍：1×105～1×10-5Pa）。
膜厚檢測系統	膜厚儀	三通道石英晶振膜厚監測儀 1 套；
	膜厚探頭	CF35 水冷膜厚探頭 3 套
設備機架	1) 40 碳鋼方管焊接機架 1 套，表面噴塑； 2) 萬向輪 4 件，移動調整； 3) M16 地腳 4 件，鎖緊定位
電控系統	金屬源蒸發源氣動擋板	2套
	金屬蒸發源電源1kw	1套
	有機源蒸發源氣動擋板	4套
	有機蒸發源電源	2套（1帶2）
	烘烤照明電源	1 臺
	樣品臺電動擋板	1套
	總控制電源	1套
	PLC 控制	配觸摸屏
手套箱	腔體尺寸	L1200* W750* H900mm
	手套	3只
	大過渡艙	內徑360mm, 長 600mm
	小過渡艙	內徑150mm, 長300mm
其他技術參數	1) 缺相保護、誤操作保護，聯動互鎖以及一鍵真空啟停等功能； 2) 供電：～220V 兩相供電系統（峰值 3KW）； 3) 供水：小型冷水機，冷卻水溫度 5℃～35℃，工作環境溫度：10℃～40℃； 4) 供氣：小型無油靜音氣泵，提供 0.2-0.3MPa 氣壓，驅動氣動閥門； 5) 極限真空：優于 6×10-5Pa，大氣至 6×10-4Pa 時間小于 35 分鐘（充干燥氮氣），關機 12 小時真空度≤10Pa。