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本產品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經過除氣處理，配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用前開門開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.
蒸發鍍膜儀產品特點：
高純度薄膜：由于在高真空條件下進行，減少了氣體分子與蒸發材料的碰撞，從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制：蒸發鍍膜技術允許對薄膜的厚度、成分和結構進行**控制，這在許多高精度應用中至關重要。
適用多種材料：蒸發鍍膜技術可以用于多種材料，包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機材料等。
高沉積速率：特別是使用電子束蒸發時，由于高能量的電子束能夠快速加熱材料，可以實現高沉積速率。
均勻性：通過適當的工藝參數調整，可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷：由于加熱主要集中在蒸發材料上，對基底的熱影響較小，適用于熱敏材料的薄膜沉積。
蒸發鍍膜儀技術對數：
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參數名稱 |
參數說明 |
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產品名稱 |
桌面型有機源蒸發鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-EVZ254-I-H-SS |
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真空腔體 |
腔體材質 |
304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理 |
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取放模式 |
前開門方式取放樣品和蒸鍍材料 |
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觀察窗 |
直徑80mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染 |
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樣品臺 |
樣品尺寸 |
直徑≦100mm的平面樣品均可 |
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旋轉速度 |
分不旋轉和旋轉型（0-20RPM） |
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加熱溫度 |
≦1800℃ |
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蒸發系統 |
蒸發源 |
鎢絲籃或塢舟 1個 |
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樣品臺蒸發源距離 |
60-100mm 可調 |
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鍍膜方式 |
熱蒸發鍍膜 |
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真空系統 |
抽氣接口：KF25/40, 排氣接口： KF16 |
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復合真空計，電阻規+電離規 |
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前級泵 |
旋片泵 抽速： 1.1L/S |
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分子泵 |
抽速： 62L/S (大阪分子泵) |
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膜厚測量 |
通常配CYKY膜厚測量儀 （可選） |
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也可選配進口品牌，價格額外計算 |
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供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2KW |
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外形尺寸 |
750mm X 450mm X750mm |
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包裝重量 |
70 KG |
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